Вакуумно — плазменные установки
мод. ВПТ-012, мод. ВПТ-014
Вакуумно-плазменные установки предназначены для нанесения
износостойких покрытий
на основе нитридов (TiN, CrN, TiCrN, TiAlN, AlTiSiN и др.) в виде однослойных
или многослойных систем с заданным соотношением компонентов.
Данные установки являются универсальными и имеют высокую производительность —
длительность технологического цикла составляет 1,5—2 часа.
ВПТ - 012
ВПТ - 014
Установки подходят для использования в инструментальном производстве для широкой номенклатуры изделий:
инструменты для получения изделий методом деформирования
инструмент из быстрорежущих и углеродистых сталей
твердосплавные неперетачиваемые режущие пластины
твердосплавные фрезы
режущий инструмент с напайными пластинами твердого сплава
детали машин, работающие в агрессивной среде
детали машин, работающие в условиях трения
инструменты
для получения изделий методом деформирования
инструмент
из быстрорежущих и углеродистых сталей
твердосплавные неперетачиваемые режущие пластины
твердосплавные
фрезы
режущий инструмент с напайными пластинами твердого сплава
детали машин, работающие
в агрессивной среде
детали машин, работающие
в условиях трения
сферы применения:
Установки оснащены:
электродуговыми испарителями
электродуговыми испарителями собственной конструкции AS, обеспечивающими минимизацию капельной фазы (диапазон рабочих токов AS составляет 80…150 А), в комплекте с блоками управления перемещением катодных пятен так же собственной конструкции. Испарители комплектуются катодами в виде шайб диаметром 118 мм. (В зависимости от требуемого состава покрытия используются катоды из чистых металлов или сплавов, в частности, из Ti, сr, Al, Ti-Al, Ti-Al-Si и др.).
источником ионов с широким каналом
источником ионов c широким каналом, который:
• обеспечивает высокую энергетическую эффективность процесса генерации широконаправленного плазменного потока, что обеспечивает высокую эффективность при очистке различного рода загрязнений и активации поверхности изделий перед напылением;
• уменьшает долю микрокапельной фракции в потоке плазмы вакуумных электродуговых испарителей;
• производит плазменную очистку, травление и активацию поверхности без подпыления ее парами материала катода.
электродуговыми испарителями
электродуговыми испарителями собственной конструкции AS, обеспечивающими минимизацию капельной фазы (диапазон рабочих токов AS составляет 80…150 А), в комплекте с блоками управления перемещением катодных пятен так же собственной конструкции. Испарители комплектуются катодами в виде шайб диаметром 118 мм. (В зависимости от требуемого состава покрытия используются катоды из чистых металлов или сплавов, в частности, из Ti, сr, Al, Ti-Al, Ti-Al-Si и др.).
источником ионов с широким каналом
источником ионов с широким каналом, который:
• обеспечивает высокую энергетическую эффективность процесса генерации широконаправленного плазменного потока, что обеспечивает высокую эффективность при очистке различного рода загрязнений и активации поверхности изделий перед напылением;
• уменьшает долю микрокапельной фракции в потоке плазмы вакуумных электродуговых испарителей;
• производит плазменную очистку, травление и активацию поверхности без подпыления ее парами материала катода.
Дополнительные модули
и узлы для Вакуумно-плазменных
установок мод. ВПТ-012, мод. ВПТ-014
Узел DLC
Оборудование предусматривает нанесение алмазоподобных покрытий методом DLC, для этого оно комплектуется специальным блоком DLC.
Основной принцип работы:
К электродам поджига подключены конденсаторные батареи, которые заряжаются от выпрямителя. Выпрямитель позволяет регулировать напряжение зарядки конденсаторных батарей в необходимых пределах.
Электроды поджига инициируют основной разряд на графитовом катоде. В результате импульсного электродугового разряда образуется углеродная
плазма, ионы которой ускоряются в электрическом поле
и конденсируются на подложке.
Получаемые покрытия
обладают
следующими
характеристиками:
• высокая твердость — сравнимая с чистым алмазом
• низкий коэффициент трения — характерный для графита
• высокая износостойкость
• химическая инертность
• биосовместимость
с живыми тканями
с живыми тканями
• экологическая чистота
• высокая твердость — сравнимая с чистым алмазом
• низкий коэффициент трения — характерный для графита
• высокая износостойкость
• химическая инертность
• биосовместимость с живыми тканями
• экологическая чистота
Газовый источник плазмы
(ГИП)
Для предварительной ионной очистки плазмой, нагрева инструмента, а также возможности
азотирования различных сталей используется специальная система на базе
эффективной очистки плазмой, а именно:
Газовый источник плазмы (ГИП).
(ГИП)
Этот узел является устройством с термоэмиссией электронов и обеспечивает проведение технологических процессов в вакууме.
Установка высокотемпературного оксидирования (ВТО)
